四重極型二次イオン質量分析装置│アルバック･ファイ社製（PHI ADEPT-1010）

PHI ADEPT-1010（アルバック・ファイ社製）は、四重極型質量分析器を搭載した二次イオン質量分析装置（D-SIMS）です。高輝度・低エネルギーのイオン銃により、半導体の極浅打ち込みドーパントや薄膜多層膜の深さ方向分析を高感度かつ高速で行えます。自動分析機能やシンプルな操作ソフトウェアも備え、製造から技術開発まで幅広い用途で、極表面の精密な深さプロファイル評価に最適な装置です。