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※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値より引用
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

アークプラズマ法ナノ粒子形成装置│アドバンス理工社製(APDシリーズ)

※価格についてはお問い合わせください。

アドバンス理工社製のアークプラズマ法ナノ粒子形成装置(APDシリーズ)は、パルス真空アーク放電を利用して、金属や酸化物・窒化物など多様なナノ粒子や極薄膜を簡便に生成できる装置です。コンデンサ容量の調整で粒径(約1.5~6nm)を自在に選択でき、導電性材料なら幅広くプラズマ化が可能です。基板への薄膜形成(APD-S)や粉体へのナノ粒子担持(APD-P)に対応し、燃料電池や触媒、光触媒、電子材料など多様な用途に活用されています。

特長

  • コンデンサの容量を変えることでナノ粒子の粒径を約1.5nm ~ 6nmまで自在に選択可能
  • 導電性材料(ターゲット)であれば、どのような材料もプラズマ化可能(※ターゲットの比抵抗0.01Ωcm以下)
  • 雰囲気を可変することで酸化物や窒化物を容易に生成可能
  • 担持されたナノ粒子は湿式と比較して高活性な触媒効果を示す
  • 最大6源を同時に蒸着可能

APD-S(基板蒸着モデル)の使用例

  • 金属薄膜(磁性、プラズモン、保護膜)、ナノ粒子

APD-P(粉体担持モデル)の使用例

  • ナノ粒子を利用した燃料電池触媒
  • 排ガス触媒
  • 光触媒
  • VOC分解触媒
  • カーボンナノチューブ触媒
  • プラズモン

仕様

APD-S APD-P
試料寸法 基板 φ2インチ 粉体 試料容器寸法(内寸) φ95mm×高30mm 攪拌機構付
標準蒸着源数 1 1

この製品を導入した実績

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