アークプラズマ蒸着源│アドバンス理工社製（APS-1）製品紹介│三弘エマテック株式会社
- アークプラズマ蒸着源│アドバンス理工社製（APS-1）製品紹介│三弘エマテック株式会社
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型式 APS-1 メーカー アドバンス理工㈱
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製品説明
ターゲット寸法：φ 10mm × 長 17 mm
基板寸法：φ 2インチ (φ 50 mm)
成膜速度：0.01 nm/s ～ 0.3 nm/s *1
膜厚分布：Feの場合： < ± 10 % ( φ 20 mmエリア) *1
成膜可能材料：導電材料全般 *2
＊1 ターゲット～基板距離 80mm時
＊2 ターゲットの比抵抗0.01Ωcm以下
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています
※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用
特徴
- ナノ粒子のサイズが従来の湿式法より均一なため高活性な触媒の生成が可能
- ナノ粒子の粒径を約1.5nm ～ 6nmまで選択可能
- 雰囲気を可変することで酸化物や窒化物を容易に生成可能
- ICF070（VG50）相当のフランジがあれば方向を選ばず取り付け可能
- 水冷設備不要で、メンテナンスが容易
- 複数の蒸着源による化合物の生成
- お手持ちの真空チャンバーに増設
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