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※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値より引用
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉│アドバンス理工社製(MIROシリーズ)

※価格についてはお問い合わせください。

最大1800℃までの局所加熱が可能で、真空や不活性ガス中での熱処理や結晶成長、熱衝撃試験、急速冷却など、さまざまな高温実験や材料研究に幅広く活用できます。また、加熱中の試料観察や温度プログラム制御も容易に行えます。

特長

  • 超小型で低価格な超高温加熱炉
  • シングル又はダブルタイプチャンバと組み合わせることで、真空中、不活性ガス中等の雰囲気下で加熱可能
  • 加熱中の試料観察が可能
  • お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
  • 加熱中の温度データをパソコン上に表示することが可能

用途

  • 超高温真空熱処理
  • 結晶成長試験(ゾーンメルティング)
  • 小試料の超高温加熱試験
  • 局部加熱熱衝撃試験
  • 熱サイクル試験
  • 熱分析用
  • 発生ガスパイロライザ用
  • 微小重力下実験炉

仕様

MR39H MR39HS MR39HD RTA-MR59HD CAS-MR59AQ
加熱炉 シングル シングル ダブル ダブル ダブル
焦点距離 39mm 39mm 39mm 59mm 59mm
加熱ゾーン φ8mm φ8mm φ8mm φ15mm φ15mm
加熱温度範囲 RT ~ 1800℃ RT ~ 1800℃ RT ~ 1800℃ RT ~ 1800℃ RT ~ 1800℃
試料寸法 φ8mm × 長10mm φ8mm × 長10mm φ8mm × 長10mm 角15mm × 厚1mm φ12mm × 長13mm
加熱雰囲気 各種ガスフロー中 各種ガスフロー中 各種ガスフロー中 各種ガスフロー中 各種ガスフロー中
試料冷却 ガス冷却 ガス冷却 ガス冷却 ガス冷却 ガス冷却、水クエンチ
試料冷却対応 JIS B φ0.3(W-Re対応可) JIS B φ0.3(W-Re対応可) JIS B φ0.3(W-Re対応可) JIS B φ0.3(W-Re対応可)
加熱ゾーン MR-H5500(MR専用) MR-H5500(MR専用) MR-H5500(MR専用) TPC-5000シリーズ TPC-5000シリーズ

この製品を導入した実績

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