雰囲気可変型ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（QHCシリーズ/VHCシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
- 雰囲気可変型ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（QHCシリーズ/VHCシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
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型式 QHCシリーズ/VHCシリーズ メーカー アドバンス理工㈱
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製品説明
QHC、VHC-E410
加熱方式：赤外線楕円面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1400℃
熱処理ゾーン：φ15mm×長100mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ10mm×長80mm
冷却方式：チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式
QHC、VHC-P610C
加熱方式：赤外線放物面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1200℃
熱処理ゾーン：φ50mm×長100mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ40mm×長80mm
冷却方式：チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式
QHC、VHC-P616C
加熱方式：赤外線放物面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1200℃
熱処理ゾーン：φ50mm×長150mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ40mm×長120mm
冷却方式：チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式
※1 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。
※2 加熱炉やオプションを変更追加することは可能です。お気軽にご相談下さい。
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています
※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用
特徴
- 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
- 多段ステップおよびサイクル加熱
- ガス冷却機構による高速ガスクエンチ
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
- また、加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能
- 太陽電池基板の熱処理
- 水素雰囲気下での熱処理
- 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
- ガスクェンチ熱処理
- 熱サイクル・熱衝撃試験
- 半導体材料の焼成、プロセスアニール条件の検討
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