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※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値より引用
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

雰囲気可変型ランプ加熱装置│アドバンス理工社製(QHCシリーズ/VHCシリーズ)

※価格についてはお問い合わせください。

アドバンス理工社製の雰囲気可変型ランプ加熱装置(QHCシリーズ/VHCシリーズ)は、赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラ、石英チャンバを組み合わせた高速加熱・冷却装置です。大気、各種ガス、真空など多様な雰囲気下で、最大1400℃までの加熱やガスクエンチが可能で、太陽電池や半導体材料の熱処理、アニール、熱サイクル試験など幅広い用途に対応します。加熱操作やデータ管理はパソコンで簡単に行えます。

特長

  • 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
  • 多段ステップおよびサイクル加熱
  • ガス冷却機構による高速ガスクエンチ
  • お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
  • 加熱中の温度データをパソコン上に表示することが可能

用途

  • 太陽電池基板の熱処理
  • 水素雰囲気下での熱処理
  • 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
  • ガスクェンチ熱処理
  • 熱サイクル・熱衝撃試験
  • 半導体材料の焼成、プロセスアニール条件の検討

仕様

QHC、VHC-E410 QHC、VHC-P610C QHC、VHC-P616C
加熱方式 赤外線楕円面反射集光式 赤外線放物面反射集光式 赤外線放物面反射集光式
温度範囲 RT ~ 1400℃ RT ~ 1200℃ RT ~ 1200℃
熱処理ゾーン φ15mm × 長100mm φ50mm × 長100mm φ50mm × 長150mm
均熱ゾーン(加熱時) φ10mm × 長80mm φ40mm × 長80mm φ40mm × 長120mm
冷却方式 チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式 チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式 チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式

※1 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。
※2 加熱炉やオプションを変更追加することは可能です。お気軽にご相談下さい。

この製品を導入した実績

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