簡易型赤外線ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（SSAシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
- 簡易型赤外線ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（SSAシリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
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型式 SSAシリーズ メーカー アドバンス理工㈱
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製品説明
SSA-E45
加熱方式：赤外線楕円面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1400℃
熱処理ゾーン：φ15mm×長50mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ10mm×長40mm
熱処理チャンバ：石英製 φ30（ガスフロー型）
石英試料ホルダ：石英製（ポートタイプ）
熱電対：JIS “R” 1対
プログラム温度制御器：TPC5000-32-1
SSA-E410
加熱方式：赤外線楕円面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1400℃
熱処理ゾーン：φ15mm×長100mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ10mm×長80mm
熱処理チャンバ：石英製 φ30（ガスフロー型）
石英試料ホルダ：石英製（ポートタイプ）
熱電対：JIS “R” 1対
プログラム温度制御器：TPC5000-62-1
SSA-P610C
加熱方式：赤外線放物面反射集光式
温度範囲：RT ～ 1200℃
熱処理ゾーン：φ50mm×長100mm
均熱ゾーン（加熱時）：φ40mm×長80mm
熱処理チャンバ：石英製 φ98（ガスフロー型）
石英試料ホルダ：石英製（2インチ板状タイプ）
熱電対：JIS “R” 1対
プログラム温度制御器：TPC5000-62-1
※ 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています
※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用
特徴
- 石英チャンバは、ガスフロータイプまたは真空タイプを選択可能（標準は、ガスフロータイプ）
- オプションで、ガスフロータイプと真空タイプを両方兼ねることが可能
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
- また、加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能
- 化合物半導体のアロイング
- Si、化合物半導体のRTA
- セラミック基板上の積層材の焼成炉
- ガラス・セラミック基板のアニール炉
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