卓上型ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（MILA-5000シリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
- 卓上型ランプ加熱装置│アドバンス理工社製（MILA-5000シリーズ）製品紹介│三弘エマテック株式会社
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型式 MILA-5000シリーズ メーカー アドバンス理工㈱
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製品説明
MILA-5000-P-F（均熱型）
温度範囲：RT ～ 800℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度：6.5Pa（RP*1使用、室温無負荷）
MILA-5000-P-N（高温型）
温度範囲：RT ～ 1200℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度：6.5Pa（RP*1使用、室温無負荷）
MILA-5000UHV（高温・高真空型）
温度範囲：RT ～ 1200℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、高真空中、不活性ガス中
到達真空度：10-4Pa（TMP*1使用、室温無負荷）
＊1 真空排気装置はオプション
＊2 加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています
※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用
特徴
- 真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
- 精密な温度コントロール
- 卓上型でコンパクトな設計
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が、簡単に実行可能
- 加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能
- 強誘電体薄膜の結晶アニール
- イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
- Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
- ガラス基板の均熱アニール計
- 熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
- 昇温脱理試験用加熱炉
- 触媒効果試験
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