製品情報 PRODUCT

受託可能なコーティング

・真空蒸着

・イオンプレーティング/HCD（Hollow Cathode Discharge）法

・イオンプレーティング/AIP（Arc Ion Plating）法

・スパッタリング

※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用

コーティングソリューションの特徴

・多様な膜種に対応でき、対応出来る膜厚のレンジが広い

・メッキなどの湿式プロセスに対し乾式プロセスなので、環境負荷が小さい。

　（廃液や排気の心配がない）

・薄膜が可能なため、基板の表面性を損なわずに成膜出来る

・真空装置メーカーである(株)アルバックの関連会社であり、長年の委託成膜業務を行ってきた経験から、

　装置技術・成膜技術の両方に精通をしており、さまざまなニーズにお応えできる。

コーティングにより得られる機能的特徴

・強度：耐摩耗性、表面高硬度化

・表面特性：低摩擦、オイルレス潤滑、離型性、滑り防止、撥水

・熱：耐熱性、高輻射

・電気/磁気：静電気除去、導電性、二次電子放出防止

・化学変化：耐酸化性、腐食防止、防錆性、ガスバリア、水素バリア

・デザイン：色彩的装飾、質感的装飾

・光学特性：反射防止、紫外線カット