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※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値より引用
※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

四重極型二次イオン質量分析装置│アルバック・ファイ社製(PHI ADEPT-1010)

※価格についてはお問い合わせください。

PHI ADEPT-1010(アルバック・ファイ社製)は、四重極型質量分析器を搭載した二次イオン質量分析装置(D-SIMS)です。高輝度・低エネルギーのイオン銃により、半導体の極浅打ち込みドーパントや薄膜多層膜の深さ方向分析を高感度かつ高速で行えます。自動分析機能やシンプルな操作ソフトウェアも備え、製造から技術開発まで幅広い用途で、極表面の精密な深さプロファイル評価に最適な装置です。

特長

  • 高輝度底エネルギーフローティングイオン銃(Cs⁺、O₂⁺)の採用により、究極の深さ方向分解能を実現
  • 高透過率二次イオン光学系の採用により、ダイナミックレンジならびに検出下限を大幅に改善し、高感度・高速分析を実現
  • 高精度全自動5軸ステージによる自動測定が可能
  • 垂直入射から斜め入射まで、高感度測定が可能

仕様

PHI ADEPT-1010
構成 装置本体 / 電気系本体 / ドライポンプ
装置本体重量 750kg
電気系本体重量 600kg
推奨床面積 350cm × 400cm
搬入間口 幅110cm以上、高さ190cm以上
電力 200-230V 単相 50A 50/60Hz 1系統

この製品を導入した実績

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