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加工設備のメンテナンス時にエラーを発生させないと定評のあるULシリーズ。

加工設備のメンテナンスの手間を低減し、これまで以上に安全性を高めることも可能。

メンテナンス終了後の時間のかかる圧力上昇テストも確実にクリア。

UL3000 Fabヘリウムリークディテクタは、クリーンルーム内での

半導体製造装置のメンテナンスや、生産現場で清浄度が要求されるアプリケーションに適合。

 

UL3000 Fab　

ヘリウム最小検知リークレート（真空モード）：<5X10⁻¹³Pa ㎥/s

接続ポート最大圧力：マッシブモード：100KPa

フォアラインポンプ排気速度：>32㎥/h

接続ポート：DN25KF1

 

UL3000 Fab ULTRA

ヘリウム最小検知リークレート（真空モード）：<5X10⁻¹³Pa ㎥/s

接続ポート最大圧力：マッシブモード：100KPa

フォアラインポンプ排気速度：>36㎥/h

接続ポート：DN25KF1

 

【用途】

◆半導体産業

◆太陽光発電産業

◆レーザーテクノロジー

◆臨床検査テクノロジー

◆その他、エレクトロニクス、加速器、コーティングシステム、ガス供給システム、表示ツール、密封型電子デバイスのリーク検査など

 

※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

※機器のスペック仕様は、各メーカーのカタログ掲載値を引用

●高速測定用I･CALソフトウェアアルゴリズムによる広測定範囲での高速反応

●装置システム真空排気を待つこと無く大きな洩れを検出(Massiveモード）

●高速バックグラウンド抑制用I･ZERO 2.0 による検査作業の最小化

●超寿命のイオンソースによるランニングコスト低減

●UL3000 Fab ULTRAはフォアラインポンプにルーツポンプを採用しておりメンテナンス期間を削減

●スニファーライン SL3000を用い離れた距離でも優れたレスポンス