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クリーンルーム内での半導体製造装置のメンテナンスや生産など、清浄度が要求される

あらゆるアプリケーションに適合するリークディテクタです。

【用途】

UL3000 Fabヘリウムリークディテクタは、清浄度が要求されるさまざまなアプリケーションに適しています。

・半導体産業: 半導体製造装置のメンテナンスや生産において、清浄度の要求が高いため、リーク検出が必要です。

・太陽光発電産業: 太陽光パネル製造装置のメンテナンスにおいて、高い清浄度が求められるため、

　リークディテクタが役立ちます。

・レーザーテクノロジー: レーザーシステムのメンテナンスや製造プロセスにおいて、高い信頼性が必要とします。

・臨床検査テクノロジー: 医療機器や臨床機器の製造やメンテナンスにおいて、リーク検出が品質管理の一部です。

その他の用途: エレクトロニクス、加速器、コーティングシステム、ガス供給システム、表示ツール、

密閉型電子デバイスのリーク検査など、さまざまな産業で使用されます。

※製品画像はメーカーより許可を得て掲載しています

時間の節約

高速測定用I·CALソフトウェアアルゴリズムを使用し、非常に高い検出感度でリークを素早く検出します。

大きな漏れを素早く検出するMassiveリーク機能により、装置システム真空排気を待つ必要がありません。

高効率

高速バックグラウンド抑制用I·ZERO 2.0を備え、高速排気と短い応答時間によって検査作業を最小限に抑えます。

コスト効率

長寿命のイオンソースとカウンタフロー式真空システムにより、低総所有コストを実現します。

UL3000 Fab ULTRAモデルはフォアラインポンプにルーツポンプを採用し、メンテナンスの頻度を削減します。

使用および統合が容易

高解像度の回転式フルカラーディスプレイを備え、ユーザーフレンドリーなHMIを提供します。

スニファーラインSL3000を使用したスニファー漏れ検査を行うガス供給システムを簡単に統合できます。