特長
- 試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能
- 最高温度は1200℃
- 高速加熱冷却が可能な赤外線ゴールドイメージ炉と加熱チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型加熱装置
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
- 加熱中の温度データをパソコン上に表示することが可能
用途
- Siウエハ、化合物ウエハの高速加熱
- 光CVDの基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱
- ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
- 熱サイクル試験
- 金属材料の焼鈍
- コーティング膜の耐熱評価
- 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥
仕様
| MILA-5050 | |
|---|---|
| 温度範囲 | RT ～ 1200℃ |
| 昇温速度 | 50℃ /s |
| 試料寸法 | 角50 または φ50mm × 厚5mm |
| 加熱雰囲気 | 真空中、各種ガスフロー中 |
| 装置寸法 | W450 × D492 × H219（mm）突起物除く |
※真空排気装置はオプション
※加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
