特長
- 真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
- 精密な温度コントロール
- 卓上型でコンパクトな設計
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が、簡単に実行可能
- 加熱中の温度データをパソコン上に表示することが可能
用途
- 強誘電体薄膜の結晶アニール
- イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
- Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
- ガラス基板の均熱アニール計
- 熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
- 昇温脱理試験用加熱炉
- 触媒効果試験
仕様
| MILA-5000-P-F （均熱型） |
MILA-5000-P-N （高温型） |
MILA-5000UHV （高温・高真空型） |
|
|---|---|---|---|
| 温度範囲 | RT ～ 800℃ | RT ～ 1200℃ | RT ～ 1000℃ |
| 試料寸法 | 角 20mm × 厚 2mm | 角 20mm × 厚 2mm | 角 20mm × 厚 2mm |
| 加熱雰囲気 | 大気中、真空中、不活性ガス中 | 大気中、真空中、不活性ガス中 | 大気中、高真空中、不活性ガス中 |
| プロセス圧力 | 10Pa～大気圧 （RP*1使用、室温無負荷） |
10Pa～大気圧 （RP*1使用、室温無負荷） |
10⁻⁴Pa～大気圧 （TMP*1使用、室温無負荷） |
※1 真空排気装置はオプション
※2 加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
