特長
- 従来の抵抗炉に比べ、1/4の測定時間
- 温度制御応答性の向上により、温度安定性も向上
用途
- 熱電材料の研究開発
- セラミックス、金属、有機材料の研究開発
- FPD周辺材料の熱拡散および熱伝導の評価
- 半導体デバイスや素子のモールド（封止）材料の熱拡散性の研究
仕様
| TC-9000L | TC-9000H | TC-9000UVH | TC-1200RH | |
|---|---|---|---|---|
| 温度範囲 | -120～200℃ | RT～1500℃ | RT～2200℃ | RT～1150℃ |
| 昇温速度 | 10℃/min | 10℃/min | 10℃/min | 50℃/min |
| 試料寸法 | φ10mm×厚1～3mm（厚さ方向測定） | φ10mm×厚1～3mm（厚さ方向測定） | φ10mm×厚1～3mm（厚さ方向測定） | φ10mm×厚1～3mm（厚さ方向測定） |
| 測定雰囲気 | 低圧Heガス中 | 真空中 ※150℃までは大気中も可 | 真空中 ※150℃までは大気中も可 | 真空中 ※150℃までは大気中も可 |
特許・規格
- JIS R 1611-1997：ファインセラミックスのレーザフラッシュ法による熱拡散率・比熱容量・熱伝導率試験方法
- JIS R 1650-3-2002：ファインセラミックス熱電材料の測定方法
- JIS H 7801-2005：金属のレーザフラッシュ法による熱拡散率の測定方法
- JIS R 1667-2005：長繊維強化セラミックス複合材料のレーザフラッシュ法による熱拡散率測定方法
- ISO 18755-2005：Determination of thermal diffusivity of monolithic ceramics by laser flash method
レーザーフラッシュ法熱定数測定装置の仕組みとメリット
1. 仕組み
この装置は、レーザー光を用いて物質の熱伝導率や熱拡散率を測定します。具体的には、物質の表面に短いレーザーパルスを照射し、瞬時に加熱します。
その後、レーザー光が物質内部でどれくらい速く広がるかを観察します。広がり方から、物質の熱伝導や拡散の特性を計算できます。
2. メリット
- 高速で非接触：レーザー光を利用するため、測定が迅速で物質に直接触れる必要がありません。
- 正確な測定：微小なサンプルでも熱特性を正確に測定できます。
- 産業への応用：この装置は材料開発や品質管理、エネルギー効率の向上などに活用されます。
熱伝導率や熱拡散率は、例えば建物の断熱材や電子機器の冷却材料の選定に重要です。
この装置を用いて、より効率的で安全な製品を開発することができます。
